电子与通信技术:微电子学测试题(每日一练)
2019-05-11 01:22:45 来源:91考试网 作者:www.91exam.org 【
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1、填空题  硅和锗都是Ⅳ族元素,它们具有()结构。


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2、判断题  微电子技术、通信技术和因特网技术构成了信息技术发展的三大基础。


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3、问答题  用你自己的话解释微电子学、集成电路的概念?


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4、填空题  MOS型集成电路又分为NMOS、PMOS、()型。


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5、问答题  什么是集成电路设计?


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6、问答题  集成电路的性能指标有哪 些?


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7、填空题  N型半导体中电子是多子,空穴是()。


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8、填空题  非晶、()、单晶是固体的三种基本类型。


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9、判断题  双极集成电路中的晶体管工作机理依赖于电子或者空穴。


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10、填空题  集成电路的特征尺寸有时也称线宽,通常是指集成电路中半导体器件的()。


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11、判断题  如果光刻胶在曝光前可溶于某种 溶液而经过曝光后不可溶,则这种光刻胶为正胶。


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12、填空题  双极型晶体管可以用来产生、放大和处理各种()。


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13、填空题  晶体性质的基本特征之一是具有()。


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14、填空题  在P型半导体中空穴是多子,()是少子。


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15、判断题  EDA是计算机辅助测试的英文简称。


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16、填空题  组合逻辑电路的输出状态只与当时的()有关。


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17、问答题  什么是集成电路设计?集成电路的设计方法有哪些?


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18、问答题  什么是基区宽变效应,基区宽变效应受哪些因素影响?


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19、填空题  在正常使用条件下,晶体管的发射结加正向小电压,称为()偏置,集电结加反向大电压,称为反向偏置。


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20、问答题  列举出你见到的、想到的不同类型的集成电路及其主要作用?


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21、填空题  2000年,因发明集成电路而被授予诺贝尔物理学奖的是()。


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22、判断题  对于处于饱和区的MOS晶体管,漏源电流随其宽长比的增大而增大。


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23、判断题  常用来制造半导体发光二极管的材料是直接跃迁晶体材料。


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24、填空题  根据不同的击穿机理,PN结击穿主要分为()和隧道击穿这两种电击穿。


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25、填空题  晶体管的直流特性曲线可以分为三个区域:放大区,饱和区,()。


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26、问答题  晶体管的基极宽度会影响那些参数?为什么?


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27、判断题  SOC指的是系统芯片。


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28、判断题  CMOS电路与双极集成电路相比速度快。


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29、填空题  能量最高的是价电子所填充的能带,称为()。


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30、名词解释  短沟道效应


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