1、填空题  当某罩产品良品数低于（）判定为报废。

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本题答案：40%
本题解析：试题答案40%

2、单项选择题  为使蒸发材料分子从蒸发源到达基板时基本不和残余气体分子发生碰撞，故真空室内真空度要到达10-3Pa以下，以满足（）条件

A、气体分子平均自由程小于蒸发距离.
B、气体分子平均自由程远大于蒸发距离
C、气体分子平均自由程等于蒸发距离。
D、气体分子平均自由程的平方大于蒸发距离。

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本题答案：B
本题解析：暂无解析

3、填空题  测量真空的器械称为（）。一般分为电离规真空计和（）两种。

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本题答案：真空计；电阻式真空计
本题解析：试题答案真空计；电阻式真空计

4、判断题  在装韩一电子枪时，装好电子枪灯丝拧紧电子枪灯冒，但拧紧之后又要倒转1/4圈。

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本题答案：对
本题解析：暂无解析

5、判断题  每次开机前都需要对镀膜机进行全面检查，但换电时例外。

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本题答案：错
本题解析：暂无解析

6、判断题  在镀膜前先需核对所镀镜片与流程卡是否相符。

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本题答案：对
本题解析：暂无解析

7、多项选择题  提高膜层聚集密度工艺有（）。

A、提高离子源功率
B、降低温度
C、降低真空度
D、提高温度

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本题答案：A, D
本题解析：暂无解析

8、判断题  自动关机时只要把总电源关掉就可以了。

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本题答案：错
本题解析：暂无解析

9、多项选择题  增强膜层和镜片附着强度，以下那些因素有关（）。

A、镜片表面清洁度
B、镜片表面温度
C、真空室内清洁度
D、膜层材料

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本题答案：A, B, C, D
本题解析：暂无解析

10、判断题  TiO2的充氧量过多会导致脱膜问题。

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本题答案：对
本题解析：暂无解析

11、填空题  烘烤时间在原有基础上加长半小时，中心波长会（）（填偏长或偏短）。

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本题答案：偏长
本题解析：试题答案偏长

12、多项选择题  如果你镀出来一罩产品有的圈产品合格，有的圈产品不合格，与下列（）因素有关

A、光斑不在中心位置
B、修正板变形
C、电子枪档板松掉
D、蒸发速率不稳

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本题答案：A, B, C
本题解析：暂无解析

13、填空题  产品规格为77*77的晶片，镀膜一罩可以装120片，下片时由于不小心弄碎了1片，那么该罩的碎片率为（）。

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本题答案：0.8%
本题解析：试题答案0.8%

14、单项选择题  用分光光度计检测光谱曲线的中心波长时，镜片放倾斜了，则测量值与真实值比较，会（）。

A.相等
B.偏长
C.偏短
D.不一定

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本题答案：C
本题解析：暂无解析

15、填空题  光学厚度=（）×（）。

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本题答案：物理厚度；折射率
本题解析：试题答案物理厚度；折射率

16、多项选择题  如果你镀出来一罩产品有的圈产品合格，有的圈产品不合格，与下列（）因素有关

A、光斑不在中心位置
B、修正板变形
C、电子枪档板松掉
D、蒸发速率不稳

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本题答案：A, B, C
本题解析：暂无解析

17、多项选择题  手动预熔材料时，应注意下列哪些事项？（）

A、真空室内达到一定的真空度，开始加电流预熔材料
B、光斑不能打到坩埚边上，更不能打到坩埚外边
C、预熔时的最高电流一定要高于蒸发时的电流
D、不同材料不同的预熔电流

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本题答案：A, B, C, D
本题解析：暂无解析

18、单项选择题  下列（）符号代表Y方向的光斑大小。

A、YP
B、YS
C、XP
D、EB

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本题答案：B
本题解析：暂无解析

19、判断题  镀膜机镀膜结束，不需要冷却可直接充气。

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本题答案：错
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20、多项选择题  下列哪些部件在机器运行时需要冷却水？（）

A、电子枪
B、扩散泵
C、坩埚盘
D、晶振头

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本题答案：B, C, D
本题解析：暂无解析

21、单项选择题  患者，男，7岁。患血友病5年，多次使用Ⅶ因子进行治疗，近2个月反复发热，口服抗生素治疗无效。实验室检查：Anti-HIV阳性。选择符合HIV诊断的结果（）

A.CD4+T细胞↓，CD8+T细胞↓，CD4+／CD8+正常
B.CD4+T细胞↓，CD8+T细胞正常，CD4+／CD8+↓
C.CD4+T细胞正常，CD8+T细胞↓，CD4+／CD8+↑
D.CD4+T细胞↑，CD8+T细胞正常，CD4+／CD8+↑
E.CD4+T细胞正常，CD8+T细胞↑，CD4+／CD8+↓

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本题答案：B
本题解析：HIV感染的典型表现为CD4+细胞减少，CD8+细胞正常，CD4+／CD8+↓。

22、多项选择题  真空室内部清扫不干净，可能会导致以下哪些结果？（）

A、机器抽速慢
B、产品表面质量差
C、机器效率降低
D、分光特性不重复

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本题答案：A, B, C, D
本题解析：暂无解析

23、多项选择题  镀膜机抽速慢，以下哪些可能会引起？（）

A、各类泵油使用时间太长，已变质
B、POLYCOLD有问题
C、真空室的清洁不到位
D、机器有漏气

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本题答案：A, B, C, D
本题解析：暂无解析

24、多项选择题  材料蒸发时，充氧的主要目的有哪些？（）

A、补充材料失去的氧原子，使材料氧化更充分，降低膜层吸收
B、使每次镀膜时，真空室内的真空状态相接近
C、使蒸发更稳定
D、使控制更精确

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本题答案：A, B
本题解析：暂无解析

25、多项选择题  在镀膜过程中，石英晶振可以显示以下哪些数值？（）

A、蒸发速率
B、蒸发温度
C、真空度
D、膜层厚度

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本题答案：A, D
本题解析：暂无解析

26、单项选择题  真空镀膜时真空度范围应在（）。

A、低真空
B、中真空
C、高真空
D、超高真空

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本题答案：C
本题解析：暂无解析

27、填空题  目前规定的防污板更换周期为（）罩。更换防污板空镀时要镀（）。

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本题答案：12；铬
本题解析：试题答案12；铬

28、单项选择题  在可见光光谱中，绿色波长范围是（）。

A、600-570
B、500-450
C、630-600
D、570-500

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本题答案：D
本题解析：暂无解析

29、判断题  倒片时可以不用戴乳胶手套.

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本题答案：错
本题解析：暂无解析

30、单项选择题  光驰OTFC镀膜机离子源有（）片栅极片。

A、1
B、2
C、3
D、4

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本题答案：C
本题解析：暂无解析