填空题  (16分)氨气是一种重要的基础化工原料，用途广泛。
（1）在微电子工业中，氨水可作刻蚀剂H2O2的清除剂，产物不污染环境。该反应的化学方程式为2NH3 + 3H2O2=         +6H2O
（2）工业中常用以下反应合成氨：N2+3H22NH3 △H＜0。某实验室在三个不同条件的密闭容器中，分别加入N2和H2，浓度均为c(N2) =" 0.100mol/L," c(H2) = 0.300mol/L，进行反应时, N2的浓度随时间的变化如图①、②、③曲线所示。

该反应平衡常数的数学表达式为            ；实验②平衡时H2的转化率为_____       。
（3）据图所示，②、③两装置中各有一个条件与①不同。请指出，并说明判断的理由。
②条件：____ ___     理由：                                     ________
③条件：_______     理由：                                     ________

填空题  (16分)氨气是一种重要的基础化工原料，用途广泛。
（1）在微电子工业中，氨水可作刻蚀剂H2O2的清除剂，产物不污染环境。该反应的化学方程式为2NH3 + 3H2O2=         +6H2O
（2）工业中常用以下反应合成氨：N2+3H22NH3 △H＜0。某实验室在三个不同条件的密闭容器中，分别加入N2和H2，浓度均为c(N2) =" 0.100mol/L," c(H2) = 0.300mol/L，进行反应时, N2的浓度随时间的变化如图①、②、③曲线所示。

该反应平衡常数的数学表达式为            ；实验②平衡时H2的转化率为_____       。
（3）据图所示，②、③两装置中各有一个条件与①不同。请指出，并说明判断的理由。
②条件：_______     理由：                                     ________
③条件：_______     理由：                                     ________
本题答案：．(16分)
（1）2NH3 + 3H2O2
本题解析：略

本题所属考点：【化学平衡】
本题难易程度：【一般】