选择题  三氟化氮是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：
3NF3+5H2O=2N O+HNO3+9HF。下了有关该反应的说法正确的是:
A．NF3是氧化剂，H2O是还原剂
B．还原剂与氧化剂的物质的量之比为2:1
C．若生成0.2mol HNO3，则转移0.2mol电子
D．NF3在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体

选择题  三氟化氮是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：
3NF3+5H2O=2NO+HNO3+9HF。下了有关该反应的说法正确的是:
A．NF3是氧化剂，H2O是还原剂
B．还原剂与氧化剂的物质的量之比为2:1
C．若生成0.2mol HNO3，则转移0.2mol电子
D．NF3在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体


本题答案：D
本题解析：
试题分析：NF3中氮元素化合价为+3价，2/3降低为+2价的NO，1/3升高为+5价的HNO3，为还原剂；A、NF3是氧化剂和还原剂，错误；B、还原剂与氧化剂的物质的量之比为1:2，错误；C、若生成0.2mol HNO3，则 转移0.4mol电子，错误；D、正确。
考点：考查氧化还原反应概念和原理有关问题。

本题所属考点：【化学基本概念】
本题难易程度：【一般】