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1、选择题 X、Y、Z是3种短周期元素，其中X、Y位于同一族，Y、Z处于同一周期。X原子的最外层电子数是其电子层数的3倍。Z原子的核外电子数比Y原子少1。下列说法正确的是(??? )
A．元素非金属性由弱到强的顺序为Z＜Y＜X
B．Y元素最高价氧化物对应水化物的化学式可表示为H3YO4
C．3种元素的气态氢化物中，Z的气态氢化物最稳定
D．原子半径由大到小的顺序为：Z＞Y＞X
2、填空题 (6分)A、B、C、D、E、F、G均为短周期元素，它们在周期表中的位置如图所示。
请按要求回答下列问题。
A
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?
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| ?
| ?
| D
| E
| ?
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B
| ?
| C
| ?
| ?
| F
| G
| ?
（1）A单质的收集方法为??????????????????????。
（2）上述元素形成的单质中，还原性最强的是??????????????（填写元素符号）。
（3）E元素是非金属性最强的元素，其阴离子的结构示意图是???????????????。
（4）F、G元素的最高价氧化物对应水化物的酸性强弱顺序是???????????（填化学式）。
（5）B元素的最高价氧化物对应水化物与C元素的最高价氧化物对应水化物相互间反应的化学方程式是??????????????????????????????????????????????????。
3、选择题 运用元素周期律来判断，则下列叙述中不正确的是
A．元素Be的金属性比Na的金属性弱
B．At是第6周期第ⅦA族元素，HAt不稳定，且AgAt是有色难溶于水的物质
C．Sr是第5周期第ⅡA族元素，则SrSO4可能难溶于水，Sr（OH）2为强碱
D．As是第4周期第ⅤA 族元素，则AsH3比NH3更稳定
4、选择题 已知X、Y、Z都是短周期元素，它们的原子序数依次增大，X原子的电子层数与它的核外电子总数相等，而Z原子的最外层电子数是次外层的3倍，Y和Z可以形成两种以上气态化合物，则下列说法错误的是( )
A．Y和Z可以组成一种Y和Z的质量比为7∶8的化合物
B．X、Y、Z可以组成一种盐
C．X和Z可以组成原子个数比分别为1∶1和2∶1常温下呈液态的两种化合物
D．由X、Y、Z三种元素中的任意两种组成的10电子微粒只有2种
5、填空题 碳化硅(SiC) 、氧化铝(Al2O3) 和氮化硅（Si3N4）是优良的高温结构陶瓷，在工业生产和科技领域有重要用途。
（1）Al的原子结构示意图为????????????????；Al与NaOH溶液反应的离子方程式为
??????????????????????????????????????????????????????????????。
（2）氮化硅抗腐蚀能力很强，但易被氢氟酸腐蚀，氮化硅与氢氟酸反应生成四氟化硅和一种铵盐，其反应方程式为????????????????????????????????????????????????????。
（3）工业上用化学气相沉积法制备氮化硅，其反应如下：
3SiCl4(g) + 2N2(g) + 6H2(g) Si3N4(s) + 12HCl(g)??△H＜0??
某温度和压强条件下，分别将0.3mol SiCl4(g)、0.2mol N2(g)、0.6mol H2(g)充入2L密闭容器内，进行上述反应，5min达到平衡状态，所得Si3N4(s)的质量是5.60g。
①H2的平均反应速率是?????????mol／(L·min)。
②平衡时容器内N2的浓度是??????????mol·L-1。
③SiCl4(g)的转化率是????????。
④若按n(SiCl4) : n(N2) : n(H2) =" 3" : 2 : 6的投料配比，向上述容器不断扩大加料，SiCl4(g)的转化率应?????????（填“增大”、“减”或“不变”）。
⑤工业上制备纯硅反应的热化学方程式如下：
SiCl4(g)＋2H2(g)  Si(s)＋4HCl(g)；△H＝＋QkJ·mol－1(Q＞0)
某温度、压强下，将一定量的反应物通入密闭容器进行以上的反应(此条件下为可逆反应)，下列叙述正确的是(?? )
A．反应过程中，若增大压强能提高SiCl4的转化率
B．若反应开始时SiCl4为1mol，则达到平衡时，吸收热量为QkJ
C．当反应吸收热量为0.025QkJ时，生成的HCl通入100mL1mol·L－1的NaOH恰好反应
D．反应至4min时，若HCl的浓度为0.12mol·L－1，则H2的反应速率为0.03mol/(L·min)
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