1、选择题  属于氧化还原反应的离子反应是（　　）
A．氢气通过灼热的氧化铜
B．稀盐酸和碳酸钠溶液
C．铜片与硝酸汞溶液
D．氧化铝与氢氧化钠溶液混合

参考答案：A．为氧化还原反应，但不是离子反应，故A错误；
B．为

本题解析：

本题难度：一般

2、简答题  高锰酸钾是锸的重要化合物和常用的氧化剂．以下是工业上用软锰矿制备高锰酸钾的一种工艺流程．


（1）KMn04是______（填颜色）的晶体，其稀溶液是一种常用的消毒剂．其消毒机理与下列______（填序号）物质相似．A.75%酒精????B．双氧水???C．苯酚????D.84消毒液（NaClO溶液）
（2）写出K2Mn04溶液中通入CO2时发生的主要反应的离子方程式______
（3）上述流程图中：①可以循环使用的物质有生石灰、二氧化碳．Mn02和______（写化学式）；②KMn04粗晶体变为KMnO4纯晶伴，需经过步骤R，R为______（填实验操作名称）．
（4）实际生产中，常用硫酸工业的废气（含S02）与该厂的废水（含KMnO4）按一定比例混合，以减少工业“三废”对环境的污染．写出KMnO4与SO2反应的离子方程式为______
（5）若不考虑物质循环与制备过程中的损失，则1mol?MnO2可制得______mol?KMn04．

参考答案：（1）高锰酸钾晶体是深紫色，KMnO4有强氧化性，利用其强氧

本题解析：

本题难度：一般

3、选择题  化学概念是对化学现象与事实的总结和概括．下列说法中正确的是（　　）
A．分散系只包括溶液和胶体
B．使空气中游离态的氮转化为含氮化合物叫做氮的固定，氨的合成即为固氮
C．单位物质的量的物质所具有的质量叫摩尔质量，摩尔质量与1mol物质的质量完全相同
D．物质失电子的反应为还原反应

参考答案：A、分散系包括胶体、浊液、溶液，故A错误；
B、使空气

本题解析：

本题难度：简单

4、选择题  已知反应：KClO3+6HCl（浓）=KCl+3Cl2↑+3H2O，据此判断下列说法正确（　　）
A．KCl为还原产物
B．HCl全部发生氧化反应
C．该反应表明氧化性KClO3比Cl2强
D．1mol?KClO3在反应中得到6mole-

参考答案：反应KClO3+6HCl（浓）=KCl+3Cl2↑+3H2O

本题解析：

本题难度：简单

5、填空题  单晶硅是制作电子集成电路的基础材料．科学家预计，到2011年一个电脑芯片上将会集成10亿个晶体管，其功能远比我们想象的要大的多，这对硅的纯度要求很高．用化学方法可制得高纯度硅，其化学方程式为：①SiO2+2C?