1、选择题  关于下列实验，说法正确的是：
A．将一块铝片投入足量NaOH溶液中，充分反应后铝片消失，将溶液蒸干便可得到纯净NaAlO2
B．将二块相同铝片投入到等物质的量浓度的CuSO4和CuCl2溶液中，反应速率几乎相同
C．将铝粉投入浓NaOH溶液中，1mol铝可还原3mol水
D．将一小块钠投入盛有乙醇的烧杯中，由于钠的密度大于乙醇，所以钠一直在液面下反应

参考答案：C

本题解析：A中氢氧化钠是过量的，达不到除净的偏氯酸钠。由于两种铜盐中阴离子不同，所以反应速率不可能完全相同。铝和氢氧化钠溶液的反应中，作氧化剂的是水而不是氢氧化钠，根据得失电子守恒可知，C正确。由于钠和乙醇会产生氢气，所以钠在氢气的作用下，不可能一直在液面下反应，答案选C。

本题难度：简单

2、填空题  用FeCl3溶液腐蚀镀有铜的绝缘板生产印刷电路是成熟的传统工艺，现对某印刷电路生产厂家蚀刻绝缘板后所得的混合溶液（标记为A）进行如下分析：
①取50.0mL A溶液加入足量的硝酸银溶液，析出沉淀86.1g
②取50.0mL A溶液试探性地加入1.12g铁粉，结果全部溶解未见固体析出
③向实验②所得溶液中加入50 mL稀硝酸，产生1.12L NO（标准状况），反应后所得溶液的pH为1。
结合上述信息计算：
（1）所得沉淀的物质的量_____________mol；
（2）该厂所使用的FeCl3溶液的物质的量浓度_____________mol/L；
（3）A溶液中Cu2+的物质的量浓度。

参考答案：1）0.6 mol （1分）?（2）4 mol/L（2分）?（3）0.9mol/L（3分）

本题解析：略

本题难度：一般

3、实验题  （10分）如图所示，横坐标表示通入气体或加入试剂的体积，纵坐标表示产生沉淀的物质的量。适合下列各种情况的分别填入该题后（填图的字母代码）。

（1）向石灰水中通入二氧化碳_________。
（2）向氯化铝溶液中滴入NaOH溶液_________。
（3）向偏铝酸钠溶液中加入稀盐酸_________。
（4）向盐酸和氯化铝混合溶液中逐滴加入氢氧化钠溶液_________。
（5）向MgCl2和AlCl3混合液中加入过量的NaOH溶液_________。
（6）向MgCl2和AlCl3混合液中先加NaOH溶液后，至沉淀不再溶解，加HCl溶液_________。
（7）向AlCl3溶液中加氨水_________。
（8）向NaAlO2溶液中通入CO2气体_________。
（9）向KAl(SO4)2中滴加Ba(OH)2_________。
（10）向Al2(SO4)3中滴加NaAlO2溶液_________。

参考答案：（1）F （2）B?（3）A?（4）C?（5）D?（6）G （7）E （8）E?（9）D （10）E

本题解析：先写出有关的反应式，然后根据反应物的物质的量之比确定图象。

本题难度：简单

4、选择题  铝制器皿能够盛放的物质是
[? ]
A．KOH溶液?
B．浓硫酸?
C．NaOH溶液?
D．稀硫酸

参考答案：B

本题解析：

本题难度：简单

5、填空题  从铝土矿（主要成分是，含、、MgO等杂质）中提取两种工艺品的流程如下：

请回答下列问题：
（1）流程乙加入烧碱后的离子方程式为_________________________________________.
（2）固体A的应用_________________________________________.（两点）
（3）滤液D与少量CO2反应的离子方程式为__________________________________，
向该滤液K中加入足量石灰水的离子方程式是________
（4）流程乙制氧化铝的优点是所用的试剂较经济，缺点是__________________________
（5）已知298K时，的溶度积常数=10-11,取适量的滤液B,加入一定量的烧碱恰使镁离子沉淀完全，则溶液的PH最小为_______.

参考答案：(1) Al2O3+2OH-=2AlO2-+H2O? SiO2+2OH-=SiO32-+H2O?（4分）
(2)光纤、饰品、制硅、制玻璃等合理即可?（2分）
(3) 2AlO2-+CO2+3H2O=2Al(OH)3↓+ CO32-? HCO3-+Ca2++OH-= CaCO3↓+H2O?（4分）
(4) 氧化铝中会混入二氧化硅?（2分）
(5)11?（2分）

本题解析：甲流程中加入酸不溶的固体是二氧化硅，加入过量烧碱后滤液含铝离子，加入过量的二氧化碳，生成了碳酸钠和氢氧化铝沉淀。乙流程中加入过量烧碱后，滤液有偏铝酸根离子和硅酸根离子，固体为、MgO，滤液通入过量的二氧化碳后，生成了氢氧化铝沉淀，
（1）氧化铝与过量的碱反应生成了偏铝酸盐和水，二氧化硅在碱性溶液中反应生成了硅酸盐和水。
（2）固体A为二氧化硅，可以制光纤、饰品、制硅、制玻璃等合理即可。
（3）滤液D中含有偏铝酸根离子与少量CO2反应生成了氢氧化铝和碳酸根离子。滤液K中含有碳酸氢根离子与足量石灰水反应生成了碳酸钙沉淀和水。
（4）流程乙制氧化铝的过程中可能会混有二氧化硅杂质。
（5）在298K时，的溶度积常数=10-11,取适量的滤液B,加入一定量的烧碱恰使镁离子沉淀完全，根据溶度积的计算可知溶液的PH最小为11。

本题难度：一般