1、选择题  三氟化氮（NF3）是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：
3 NF3 + 5 H2O =" 2" NO + HNO3 + 9 HF。下列有关该反应的说法正确的是
A．NF3是氧化剂，H2O是还原剂
B．还原剂与氧化剂的物质的量之比为2:1
C．若生成0.2 mol HNO3，则转移0.2 mol电子
D．NF3在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体

2、填空题  根据事实完成下列反应的化学方程式：
（1）AsH3是一种很强的还原剂，室温下，它能在空气中自燃，其氧化产物为As2O3,该反应的化学方程式为________________________________________；
（2）NaNO3与氢碘酸作用，放出NO气体并有单质I2生成__________________；
（3）砷为氮族元素，其氧化物As2O3俗称砒霜，可用马氏试砷法来检验，其原理是将Zn、盐酸和试样混合，若含有砒霜，则生成AsH3气体，这一反应的离子方程式为_______________。

3、选择题  在一定条件下有下列反应：X2＋Y2＋H2O → HXO3＋HY（方程式未配平）。则X2、Y2可能的组合是
A．Br2 F2
B．I2 Cl2
C．Cl2 O2
D．N2 Br2

4、简答题  下列标明的电子转移情况哪些是正确的？哪些是错误的？对错误的予以改正。

5、填空题  请用单线桥表示反应2Na2O2+2CO2= 2Na2CO3 +O2中电子转移的数目和方向______________，并指出该反应的还原产物___________。