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三氟化氮是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中【有关氧化还原反应的计算】
2016-12-27 11:31:12
来源:91考试网
作者:www.91exam.org 【 大 中 小】
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选择题 三氟化氮是微电子工业中优良的等离子刻蚀 气体，它在潮湿的环境中能发生反应：
3NF3+5H2O=2NO+HNO3+9HF。下了有关该反应的说法正确的是:
A．NF3是氧化剂，H2O是还原剂
B．还原剂与氧化剂的物质的量之比为2:1
C．若生成0.2mol HNO3，则转移0.2mol电子
D．NF3在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体
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选择题 三氟化氮是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：
3NF3+5H2O=2NO+HNO3+9HF。下了有关该反应的说法正确的是:
A．NF3是氧化剂，H2O是还原剂
B．还原剂与氧化剂的物质的量之比为2:1
C．若生成0.2mol HNO3，则转移0.2mol电子
D．NF3在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体
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本题答案：D
本题解析：
试题分析：NF3中氮元素化合价为+3价，2/3降低为+2价的NO，1/3升高为+5价的HNO3，为还原剂；A、NF3是氧化剂和还原剂，错误；B、还原剂与氧化剂的物质的量之比为1:2，错误；C、若生成0.2mol HNO3， 则转移0.4mol电子，错误；D、正确。
考点：考查氧化还原反应概念和原理有关问题。
本题所属考点：【有关氧化还原反应的计算】
本题难易程度：【一般】
Better without gold than without friends. 宁可没有金钱,不可没有朋友.
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