1、选择题  工业上常用FeCl3溶液腐蚀镀有铜的绝缘板生产印刷电路板，该反应的离子方程式为2Fe3++Cu=2Fe2++Cu2+。取上述反应后溶液20mL进行分析，测得其中c(Fe3+)为1mol/L，向其中加入足量的AgNO3溶液，生成沉淀 17.22g。则上述反应后20mL溶液中c(Cu2+)为
A．0.5 mol/L
B．1mol/L
C．1.5 mol/L
D．2mol/L

参考答案：A

本题解析：根据题意得：因为有17.22g的AgCl，即0.12mol的AgCl，因为AgNO3溶液足量，所以原来有0.04mol的FeCl3，没有参与2Fe3++Cu=2Fe2++Cu2+反应的Fe3+为0.02*1mol，即0.02mol，则有0.04-0.02=0.02mol的Fe3+参与反应，根据离子方程式可知有Cu2+0.01mol，所以c(Cu2+)为0.01/0.02=0.5mol/L。

本题难度：一般

2、选择题  在H2SO4和Al2（SO4）3的混合溶液中，铝离子浓度是0.5mol/L，硫酸根离子浓度是0.9mol/L，则氢离子浓度最接近于（　　）
A．0.1?mol/L
B．0.2?mol/L
C．0.3?mol/L
D．0.4?mol/L

参考答案：依据混合溶液中的离子电荷守恒近似计算，混合溶液中的两种电荷守恒关系为：c（H+）+3c（Al3+）=2c（SO42-），铝离子浓度是0.5mol/L，硫酸根离子浓度是0.9mol/L，计算得到c（H+）=2c（SO42-）-3c（Al3+）=2×0.9-3×0.5=0.3mol/L；
故选C．

本题解析：

本题难度：简单

3、选择题  用NA表示阿伏加德罗常数，下列说法正确的是
A．78g Na2O2与足量水反应中电子转移了2NA
B．只有在标准状况下NA个氧气分子的物质的量才是1mol
C．16g CH4中含有4 NA个C-H键
D．在铜与硫的反应中（生成硫化亚铜），1 mol铜失去的电子数为2NA

参考答案：C

本题解析：A 错误，78g Na2O2与足量水反应中电子转移了NA
B 错误，在任何情况下，NA个氧气分子的物质的量都是1mol
C 正确，16g CH4为1mol，含有4 NA个C-H键
D 错误，在铜与硫的反应中（生成硫化亚铜），1 mol铜失去的电子数为NA

本题难度：一般

4、选择题  在标准状况下，所占体积最大的是(   )
A．98 g H2SO4
B．6.02×1023个N2分子
C．44.8 L HCl
D．6 g H2