1、填空题  高铁酸钾( K2FeO4)是一种集强氧化性、吸附、絮凝于一体的新型多功能水处理剂，生产工艺如下：?

已知：
①温度较低时：2KOH+Cl2=KCl+KClO+H2O
②温度较高时：6KOH+3Cl2=5 KCl+KClO3+3H2O
③Fe(NO3)3+KClO+KOH→K2FeO4+KNO3+KCl+H2O（未配平）
(1)该生产应在温度________的情况下进行（填“较高”或“较低”）；
(2)请配平反应③：
?口Fe(NO3)3+口KClO+口KOH→口K2FeO4+口KNO3+口KCl+H2O
(3) K2FeO4具有强氧化性的原因为___________；
(4)在“反应液I”中加KOH固体的目的是____________；
A．为下一步反应提供反应物
B．与“反应液I”中过量的Cl2继续反应，生成更多的KClO
C．KOH同体溶解时会放出较多的热量，有利于提高反应速率
D．使副产物KClO3转化为KClO
(5)从“反应液Ⅱ”中分离出K2FeO4晶体后，可以得到的副产品有 ____（写化学式）。

2、填空题  往有机聚合物中添加阻燃剂，可增加聚合物的使用安全性，扩大其应用范围。例如，在某聚乙烯树脂中加入等质量由特殊工艺制备的阻燃型Mg(OH)2，树脂可燃性大大降低。该Mg(OH)2的生产工艺如下

(1)精制卤水中的MgCl2与适量石灰乳反应合成碱式氯化镁[Mg(OH)2-xClx·mH2O]，反应的化学方程式为
______________________
(2)合成反应后，继续在393～523K下水热处理8h，发生反应：
[Mg(OH)2-xClx·mH2O]=(1-x/2)Mg(OH)2+x/2MgCl2+mH2O水热处理后，过滤、水洗。水洗的目的是_______________________。
(3)阻燃型Mg(OH)2具有晶粒大、易分散、与高分子材料相容性好等特点。上述工艺流程中与此有关的步骤是__________。
(4)已知热化学方程式：
Mg(OH)2(s)=MgO(s)+H2O(g) △H1=+81. 5kJ/mol
Al(OH)3(s)=Al2O3(s)+H2O(g) △H2=+87. 7kJ/mol
①Mg(OH)2和Al(OH)3起阻燃作用的主要原因是___________________
②等质量Mg(OH)2和Al(OH)3相比，阻燃效果较好的是______________，原因是___________________
(5)常用阻燃剂主要有三类：
A．卤系，如四溴乙烷；B．磷系，如磷酸三苯酯；C．无机类，主要是Mg(OH)2和Al(OH)3。从环保的角度考虑，应用时较理想的阻燃剂是_____（填代号），理由是_________________

3、填空题  工业上制取CuCl2的生产流程如图

请结合下表数据，回答问题：

(1)溶液A中加入X是一种“绿色”氧化剂，则X是____（填化学式），其目的是___。
(2)在溶液B中加入试剂Y常见的有：CuO、Cu(OH)2、CuCO3、____等，其作用是___。
(3)操作①应控制的pH范围是___；操作②的目的是____。
(4)往Cu(OH)2加入盐酸使Cu(OH)2转变为CuCl2。采用“稍多量盐酸”和“低温蒸干”的目的是____。

4、填空题  硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题：
（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：

①写出由纯SiHCl3，制备高纯硅的化学反应方程式________________________。
②整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式______________________________；H2还原SiHCl3 过程中若混入O2，可能引起的后果是_________________________________。
（2）下列有关硅材料的说法正确的是____（填字母）。
A．碳化硅化学性质稳定，可用于生产耐高温水泥
B．氮化硅硬度大、熔点高，可用于制作高温陶瓷和轴承
C．高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料--光导纤维
D．普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的，其熔点很高
E．盐酸可以与硅反应，故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅?

5、填空题  某铜矿石含氧化铜、氧化亚铜、三氧化二铁和大量脉石（SiO2）,现采用酸浸法从矿石中提取铜，其流程图如下

已知：?
①当矿石中三氧化二铁含量太低时，可用硫酸和硫酸铁的混合液浸出铜；
②反萃取后的水层是硫酸铜溶液，Cu2+浓度约为50g/L。
回答下列问题：
（1）矿石用稀硫酸浸出过程中氧化亚铜发生的反应为：Cu2O+2H+==Cu2++Cu+H2O；请写出该过程中发生的另一个氧化还原反应的离子方程式：______________________。
（2）写出用惰性电极电解水层的电解总反应方程式：_________________________。
（3）循环中反萃取剂B的主要成分是___________________。
（4）某铜矿石样品中，若仅含氧化亚铜、三氧化二铁和脉石三种物质。取该矿石样品200.0g，用100mL1.0mol/LH2SO4溶液浸取后，还需加入10mL?1.0mol/L?Fe2(SO4)3溶液才能使铜全部浸出，浸取液经充分电解后可得到?6.4gCu。求铜矿石样品中氧化亚铜和氧化铁的质量分数？