1、选择题  工业上由SiCl4制备高纯硅时，不使用钠、镁等活泼金属做还原剂，而是用氢气作还原剂其原因是
A．钠或镁等活泼金属的价格昂贵，成本高
B．钠或镁等活泼金属的还原性不及氢气强
C．钠或镁等金属可能与硅形成合金或残留在硅中
D．钠或镁的熔点没有硅高

2、填空题  已知CO和H2的混合气体称为水煤气，可由碳（C ）与水蒸气（H2O）在高温下反应生成。如下图

已知：单质E可作为半导体材料，化合物F是有毒的氧化物，C为液态。据此，请填空：
（1）氧化物A是___________
（2）化合物F是___________
（3）反应①的化学方程式是______________________
（4）反应②的化学方程式是______________________
（5）反应③的化学方程式是______________________

3、选择题  下列坩埚中，既可用作熔化固体KOH，又可用作熔化固体KHSO4的容器是(? )
A．铁坩埚
B．石英坩埚
C．瓷坩埚
D．石墨坩埚

4、选择题  一种新型的高温结构陶瓷主要成分为含碳和氮两种元素的化合物，则该化合物的化学式可能为（?）
A．CN
B．C2N3
C．C3N4
D．C4N3

5、选择题  往含有0.2 mol NaOH和0.1 mol Ba(OH)2溶液中持续稳定地通入CO2气体，当通入气体为8.96 L(标准状况下)时立即停止。则这一过程中，溶液中离子的物质的量和通入CO2气体的体积关系正确的图象是（气体的溶解和离子的水解忽略不计）（?）