1、选择题  将过量的CO2气体分别通入下列六种溶液：①CaCl2溶液；②Na2SiO3溶液；③NaAlO2溶液；④澄清石灰水；⑤Na2CO3饱和溶液；⑥NaOH溶液。最终，溶液中有白色沉淀析出的是[???? ]
A．①②③
B．②③④
C．②③⑤
D．①②⑥

参考答案：C

本题解析：

本题难度：简单

2、填空题  硅单质及其化合物应用很广。请回答下列问题：
(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：

①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式____________________。
②整个制备过程必须严格控制无水、无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式____________________；H2还原SiHCl3过程中若混有O2，可能引起的后果是____________________。
(2)下列有关硅材料的说法正确的是?? (　　)。
A．单质硅化学性质稳定，但可以被强碱溶液腐蚀
B．盐酸可以与硅反应，故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅
C．普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的，其熔点很高
D．光导纤维的主要成分是SiO2
(3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中，逐滴加入盐酸，振荡。写出实验现象并给予解释(用化学方程式说明)_________________________ ____。
(4)在人体器官受到损伤时，需要使用一种新型无机非金属材料来植入体内，这种材料是________(填字母)。
A．高温结构陶瓷????　B．生物陶瓷　???? C．导电陶瓷

参考答案：(1)①SiHCl3＋H2本题解析：①SiHCl3和H2在高温下反应得到高纯硅的同时，可得到HCl，因此化学方程式为SiHCl3＋H2Si＋3HCl，②SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质，不难得出另一种物质为氢气，从而写出反应化学方程式，当混有氧气时，氢气和氧气会发生反应，可能会引起爆炸，另外，氧气也可能会氧化SiHCl

本题难度：一般

3、选择题  在密闭容器中，盛有4 g O2和4 g C，加热使之充分反应后得到的气体是（???）
A．CO
B．CO2
C．CO和CO2
D．O2和CO2

参考答案：A

本题解析：n(O2)=mol，n(C)=?mol。
C+O2====CO2,2C+O2====2CO
若只生成C

本题难度：简单

4、选择题  下列情况下，两种物质不发生反应的是（???）

A．二氧化硅放入浓硫酸中
B．二氧化硅与纯碱混合加热

C．二氧化硅与碳在高温下混合
D．二氧化硅放入氢氟酸溶液中

参考答案：A

本题解析：二氧化硅与纯碱或碳在高温下混合都能反应，二氧化硅与氢氟酸常温下就能反应，但二氧化硅不能与浓硫酸反应。故选A项。

本题难度：简单

5、填空题  已知A、B、C、D、E是中学化学中常见的五种化合物，它们分别由短周期两种元素组成，甲、乙、丙是单质，常温下甲、丙、A、C、D、E是气体，B为液体，乙为固体，①③必须在高温下反应才能发生。这些单质和化合物之间存在如下关系：

（1）写出甲的分子式??????????;? A的结构式????????????；B的电子式?????????????。
（2）若反应②是重要的工业反应，则该反应的化学方程式为??????????????????????????????????。
若反应②生成的化合物E具有漂白性，则该反应的化学方程式为??????????????????????????????。
（3）1mol单质乙和1mol化合物B在高温下反应，生成1mol化合物D和1mol单质丙需吸收131.5kJ热
量，写出其反应的热化学方程式：????????????????????????????????????????????。
（4）在密闭容器中，反应①是在高温下才能发生的可逆反应，其化学反应方程式为：
????????????????????????????；反应达平衡后，若增大体系的压强，该平衡????????????（填向左移动，向右移动，不移动）；其理由是：?????????????????????????????????。

参考答案：（1）甲为 O2 ???A结构式：O=C