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1、实验题 高纯度单晶硅是典型的无机非金属材料，是制备半导体的重要材料，它的发现和使用曾引起计算机的一场“革命”。高纯硅通常用以下方法制备：用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅（含Fe、Al、B、P等杂质），粗硅与氯气反应生成四氯化硅（反应温度为450～500℃），四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置图。
相关信息：a．四氯化硅遇水极易水解；b．硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接化合生成相应的氯化物；c．有关物质的物理常数见下表：
物质
| SiCl4
| BCl3
| AlCl3
| FeCl3
| PCl5
|
沸点/℃
| 57.7
| 12.8
| —
| 315
| —
|
熔点/℃
| －70.0
| －107.2
| —
| —
| —
|
升华温度/℃
| —
| —
| 180
| 300
| 162
?
请回答下列问题：
（1）仪器e的名称为____________，装置A中f管的作用是_______________________________________，其中发生反应的离子方程式为_____??????? ____________________________________????_______。
（2）装置B中的试剂是____________。
（3）某学习小组设计了以下两种实验方案：方案甲：g接装置Ⅰ；方案乙：g接装置Ⅱ。但是甲乙两个方案中虚线内装置均有不足之处，请你评价后填写下表。
方案
| 不足之处
| 甲
| ?
| 乙
| ?
?
（4）在上述（3）的评价基础上，请设计一个合理方案：___________????________?????????????????。
（5）通过上述合理的装置制取并收集到的粗产物可通过精馏（类似多次蒸馏）得到高纯 度四氯化硅，精馏后的残留物中，除铁元素外可能还含有的杂质元素是???（填写元素符号）。
2、计算题 将一含SiO2杂质的石灰石样品100g加强热反应后，质量变为60.4 g。试计算：
（1）生成是气体在标准状况下的体积。
（2）该石灰石的纯度（碳酸钙的质量分数）。
3、选择题 下列有关硅和硅的化合物的用途错误的是
A．硅单质作耐火材料
B．晶体硅作半导体材料
C．二氧化硅作光导纤维材料
D．高纯硅作计算机芯片材料
4、选择题 固体熔化时必须破坏非极性共价键的是??? (??? )
A．冰
B．晶体硅
C．溴
D．二氧化碳
5、选择题 将适量的CO2分别通过①CaCl2?②Na2SiO3?③Ca(ClO)2?④Na2CO3饱和溶液，溶液中必定有白色沉淀析出的是（???）
A．①②③④
B．②③
C．②③④
D．①②③
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